第116章 对光源系统的改进

　　即便郭一这样说了，林欣还是久久没有平静下来。

　　这概念，就算是幻想，大概也没人这么想过吧？

　　人工制造类蛋白无机物大分子，还要有蛋白质的功能和特性，进而形成“无机物仿造人”这种无机生物存在的物质基础？

　　这就是天才的脑回路吗？

　　不管能不能成，光是这想法本身，那就是一件壮举！

　　林欣想了许久，只觉得郭一的这想法实在是太疯狂，再想下去，自己怕不是要疯，于是问道：

　　“那个，什么，系统改造的事情怎么样了？”

　　“哦，现在还没完，比我预想的做的多了一些，而且光的邻近效应的修正算法比我的要复杂的多，耽误了一些功夫。”

　　郭一说道：“不过没关系，我已经联系徐阳，把一些简单的改造设计好基础框架之后交给他们去实现了。我这边马上就完工，看徐阳那边的进度吧，最慢预计后天也就能结束。”

　　这些天，林欣闲着没事儿的时候，也了解了一些光刻的常识。

　　知道在超大规模集成电路的工艺中，193nm光刻波长的衍射、干涉等光学临近效应会形成致命问题。

　　她虽然不知道这个修正算法的难度有多大，但想来也会简单。

　　经过这些日子的了解，林欣可是知道，除了光刻机镜头之外，解决光衍射、干涉等光学临近效应的问题，也是光刻机技术突破的关键因素。

　　如果光学临近效应这个问题能够解决，28nm甚至7nm级别的光刻机技术就又能向前一步了！

　　国内厂商，苦苦研究十几年而不得的技术，郭一说改进就改进了？

　　“其实也没有那么难，只要细致观察，仔细推理，这其中的修正方案也并不难实现。”

　　郭一说道：“无非是改进了一下修正模型，使得建立的光刻模型更加精确、计算速度更快了一点，仅此而已。”

　　“模型更精确，速度反而更快了，还说仅此而已？”林欣嘟囔道：“真是一个非人类。”

　　“哈哈！”郭一可是注意到了，林欣说这话的时候，那可是满脸的骄傲神色。

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　　“常工，这升级方案看起来有一些怪异啊，我怎么有些看不懂？”

　　郭一领人改造光刻机系统的时候，A1厂的升级改造也在稳步就班的进行着，何兴也是一边调整着设备的参数，一边跟身旁的常凯聊着。

　　“怎么看不懂啊？我看这数据很清晰，该怎么做也很明了啊，何工，你有哪儿看不懂？”常凯说道。

　　“常工，我不是说实施方案看不懂。”何兴说道：

　　“我是说，这样升级原理，我完全没搞明白。这样的升级就能实现7nm的生产吗？

　　经过我的测算，这样改造之后，工艺制程不但难以升级，不降级就不错了。”

　　“成与不成的，等过几天就知道了。”

　　常凯其实也早就发现了，这样的改变，根本不足以改进生产工艺，只不过他想的比何兴更加深入了一些，其中太过复杂，不是一句话两句话能说清楚的。

　　不仅何兴和常凯，几乎所有参与这次升级改造工作的工程师都发现了这样的情况，甚至还有人跟安城跟郭一确认过，是不是方案有什么问题。

　　但郭一确认，就按这个方案实施，其他的让他们不用管。

　　在各位工程师的眼里，这样的改造比起14nm的工艺甚至有一些倒退，但是，工作既然是这样安排的，郭一既然如此的有信心，那就折腾一番也无妨。

　　实在不行，也就是耽误几天生产的事儿，大不了之后再改回来就是了，也不费多大的功夫。

　　如果不是郭一露了一手在先，人还没到就把28nm的工艺升级成14nm了，那今天再让这些工程们做今天这样的事情，所有人都会质疑，甚至是会反对的。

　　但现在，他们虽然都发现了端倪，但经过郭一确认后，他们都没再吱声。

　　老老实实的按照郭一的方案改造着，一边改造，还一边在思考，这其中究竟有没有什么特别的用意？我究竟有没有哪个地方疏忽还是漏掉了？

　　这就是权威的作用，只露了一手的郭一，现在在这些工程师眼里，那已经成了权威。

　　废话，全世界没人能做到的事情，人家没露面就做到了，这还不是权威，那什么才是权威？

　　何兴瞅了瞅常凯，心里有些不安：难道这家伙已经看懂这些改造的端倪了？他怎么就这么淡定？这么从容？

　　芯片生产工艺本身就是一个极为复杂的过程，牵一发而动全身，考虑不周的情况实在是不罕见。

　　确实会存在某个步骤误差比较大，却是故意而为的情况。

　　其目的就是为了冲抵另一个过程造成的误差，这是一种冲抵矫正方案。

　　完成了自己的工作之后，何兴又仔细的研究了一遍整体的方案，还是没有发现任何的端倪。

　　在现有的光刻机条件下，这样的改造确实提升不了生产工艺和良率，反倒会增加曝光后图形的偏差。

　　“等等！现有的光刻机条件？”何兴突然意识到了什么：“郭工现在可是不在啊，他干什么去了？莫非……”

　　一个大胆的念头从何兴的脑海里冒了出来：那就是升级光刻机！

　　升级硬件当然是不可能的，但升级软件……

　　“光学临近效应引起的图像偏差问题！”何兴立即意识到问题的关键所在。

　　他一直在A1厂，这台光刻机他可以说是了如指掌，光刻机的控制程序确实有可以升级的空间，他们一直也跟厂家有反馈。

　　但，那都是小打小闹似的升级。

　　“如果，彻底改造控制程序，进一步修正193nm极限工艺下的邻近效应导致的曝光图像偏差问题……”

　　何兴脑洞大开，有了这样的想法，即便知道没什么可能，他还是立即对这个方案进行了计算验证。

　　不计算还好，这一计算，何兴是直接被惊到了——郭一的改造方案竟然真的是照着这个思路再走！

　　换言之，郭一的改造方案就是这个！

　　“他竟然真的能够进一步改进光学邻近效应引起的图像偏差？”

　　看着最终的计算的数据竟然如此吻合，何兴也是直接瘫在了椅子上：

　　“他也不是生产光刻机的专家啊，这可能吗这？这要让魔都微电子知道了，他们不得疯掉啊！这哪是改进生产工艺啊，这直接是改造光刻机了都！”

　　即便何兴不是光刻机的专业人士，他也知道光刻机最大的两个核心部件，一个就是镜头，另一个就是光源。

　　光源最核心的问题，其实就是修正这个光学临近效应引起的图像偏差。


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